En la edición anterior Volumen 8, No. 1, Año 2018 se cometió el siguiente error en el artículo Rangel Padilla EE, Ramirez Peña HA, Martinez-Menchaca HR, Rivera Silva G, Valencia Hitte R, Lozano Longoria M, Israel Martinez G, Espinosa Fernandez R. Evaluación bajo microscopio electrónico de barrido de sellantes de fosas y fisuras hidrófobos e hidrófilos, bajo diferentes condiciones de humedad: Un estudio in vitro.

Fue repetida la figura 4 en el lugar correspondiente a la figura 5.

Figura 5. Imágenes obtenidas del Microscopio electrónico de barrido de emisión de campo para observar el sellador UltraSeal XT hidro® y UltraSeal XT plus®. (fotos 1-4 a 500, 200, 50 y 20 um) A.- Mínimo desprendimiento y pobre penetración después de la aplicación del sellador UltraSeal Xt hidro® en “ambiente seco” (A 1-4). B.- Se observan gaps en el borde de la interface Sellador-esmalte, menos fracturas y poca formación de tags usando UltraSeal XT hidro ® en ambiente húmedo (B 1-4). C.- Se observa una perfecta union entre el sellador y el esmalte del UltraSeal XT plus® en ambiente seco (C 1-4). D.- Se observa formación completas de gaps en toda la unión del sellador con el esmalte con el sellador UltraSeal XT plus® en ambiente húmedo. (D 1-4).
Figura 5. Imágenes obtenidas del Microscopio electrónico de barrido de emisión de campo para observar el sellador UltraSeal XT hidro® y UltraSeal XT plus®. (fotos 1-4 a 500, 200, 50 y 20 um) A.- Mínimo desprendimiento y pobre penetración después de la aplicación del sellador UltraSeal Xt hidro® en “ambiente seco” (A 1-4). B.- Se observan gaps en el borde de la interface Sellador-esmalte, menos fracturas y poca formación de tags usando UltraSeal XT hidro ® en ambiente húmedo (B 1-4). C.- Se observa una perfecta union entre el sellador y el esmalte del UltraSeal XT plus® en ambiente seco (C 1-4). D.- Se observa formación completas de gaps en toda la unión del sellador con el esmalte con el sellador UltraSeal XT plus® en ambiente húmedo. (D 1-4).